MC68HC908GZ8CFJ_MC9S08SH8CTGR内江【太航半导体】
摘要:通过对现阶段国内外企业在中国的专利申请量以及集成电路布图设计登记量的对比,详细分析了国内外企业对待其技术成果的保护的不同考虑角度,为企业开展相关工作提供指导。关键词:半导体,发明专利,实用新型专利,半导体技术发展到今天,已逐渐分化成三大组成部分,即设计业、芯片制造业和后道封装业。这种分化是半导体技术产业走向成熟的表现。法律上针对上述不同的三部分,也产生了多种保护手段,目前半导体技术可能涉及的知识产权有:、著作权、、集成电路布图设计、商标权。下面表1给出保护半导体技术知识产权的简要说明。需要努力保持机密性,如制定严格的、保密条例;无法保护通过反向工程(reverseengineering)。
S912XEP100W1MAG
S912XEQ384F1CAGR
S912XEQ384F1MAL
S912XEQ384J3MAL
S912XEQ384VAG
S912XEQ512F1MAG
S912XEQ512F1MAL
S912XEQ512J2MAA
S912XEQ512J3MAA
S912XEQ512J3MALR
S912XET256BMAG
S912XET256J1MAL
S912XET256J1VAG
S912XET256J1VALR
S912XET256J2CAGR
S912XET256J2CAL
S912XET256J2MAA
S912XET256J2MAG
S912XET256J2MAL
S912XET256J2VAL
S912XET256W1MAL
S912XHY256F0CLM
S912XHY256F0VLLR
S912XHZ512F1MAG
S912XHZ512F1VAG
以及含有该CMOS图象传感器电路的物品。由于集成电路布图设计条例不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等,因而当含有不同布局的掩埋区及针形区的CMOS图象传感器无法保护,或者说,如果含有该掩埋区及针形区的CMOS图象传感器电路具有不同的布局,那么需要进行不同集成电路布图设计的登记。因此,专利法的保护广度更强。从权利人的权利角度来看,专利由于保护思想,若有相关产品涉及,还可以通过“等同原则”进行认定,凡是涉及光电二极管的极的掩埋区及针形区及其变形的图像传感器、及制造、使用、许诺销售、销售、进口该图像传感器或者使用其专利方法,均可以被认定(即中的排他性);而对于登记后的集成电路,复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有性的部分的。
S912XHZ512F1VAL
S912ZVC19F0MLF
S912ZVC19M
S912ZVCA19M
S912ZVCA19MKH
S912ZVFP64CLQ
S912ZVFP64F1VLQ
S912ZVFP64VLL
S912ZVH32CLL
S912ZVH64VLQ
S912ZVHL32CLL
S912ZVHL64VLQ
S912ZVHY32CLQ
S912ZVHY32VLL
S912ZVHY32VLQ
S912ZVHY64CLQ
S912ZVM12MKH
S912ZVMC12F1MKH
S912ZVMC64VKH
S912ZVML12WKH
S912ZVML64WKH
S933
S98RN16M
经过近几年发展,浙江省已成为国内重要的微电子产业基地之一。在全国,杭州是较早发展集成电路产业的城市之一。杭州作为浙江省省会城市,在推动全城集成电路产业发展上也做出了大动作。今年7月17日,在青山湖科技城规划展览馆,《杭州市进一步鼓励集成电路产业加快发展的专项政策》(以下简称《专项政策》)正式对外发布,共十四条。杭州市经信委主任夏积亮介绍:《专项政策》重点扶持集成电路企业技术创新、应用创新、产业链整合项目,致力于培育一批“专、精、特、新”集成电路企业,为杭州打造集成创新之都提供有力保障。《专项政策》明确,每年统筹介绍各级专项资金,用于扶持杭州全市集成电路产业发展,并对资助条件、金额、比例等做了说明。
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